Samenwerking EUV-producenten
Philips, Jenoptik en het Japanse Ushio gaan samenwerken aan de verdere ontwikkeling van extreme ultra violet lichtbronnen voor lithografie. Dat moet de ontwikkeling van EUV-lithografie versnellen, waardoor het ook werkelijk bruikbaar wordt als opvolger van de ArF lasertechnologie, die nu nog veel gebruikt wordt bij de productie van halfgeleiders.
Shutterstock
Shutterstock