IMEC produceert eerste 22 nanometer SRAM
Door te werken met EUV-lithografie is het mogelijk kostenefficiënt zeer kleine chiptechnologie te ontwikkelen.

Shutterstock
Shutterstock
IMEC maakte bij de productie gebruik van Extreem Ultraviolet Lithografie (EUV). Deze technologie wordt nog niet productie gebruikt.
Het geheugencircuit heeft een afmeting van slechts 0,099 vierkante micrometer. Voor de productie ervan zin diverse technologieën gecombineerd. Zo gebruikte IMEC EUV-lithografie om de contacten en de metaallaag te printen die de transistoren verbinden. Voor de transistoren werd gebruik gemaakt van de 3D-architectuur FINFET.
Gerelateerde artikelen
Gerelateerde artikelen
Reacties
Om een reactie achter te laten is een account vereist.
Inloggen Word abonnee