Berkeley geeft optische lithografie een facelift

De standaard optische lithografie is vrijwel aan het eind van zijn levensduur. Zelfs met extreem ultraviolet licht (EUV) kunnen geen structuren op nanoschaal worden gemaakt. Die zijn wel nodig voor nieuwe generaties halfgeleiders en dus moet een nieuwe techniek worden gebruikt. Een ander facet is dat EUV-productiemachines erg duur zijn omdat speciale materialen nodig zijn voor de belichtingsmaskers. De onderzoekers hebben berekend dat zo’n setje maskers wel 1 miljoen dollar kan kosten.