Intel maakt eerste chip met 0,13 micron technologie

Met behulp van deze geavanceerde productietechnologie kan het bedrijf meer chips uit een wafer maken. Tot nu toe produceerde het bedrijf zijn halfgeleiders met de 0,18 micron-technologie. De nieuwe productietechnologie maakt het mogelijk dunnere lijnen op de chip te ‘branden’. Daardoor kunnen veel meer transistoren op een kleiner oppervlak geplaatst worden. Ook kan met deze technologie overgegaan worden op koperen in plaats van de huidige aluminium draden. De voordelen van koper zijn dat het goedkoper, sneller en koeler is. Tevens is Intel bezig grotere wafers in gebruik te nemen, met een doorsnede van 300 in plaats van de huidige 200 mm. Te zamen met de 0,13 micron technologie moet dat een verviervoudiging van de productiecapaciteit van een gemiddelde chipfabriek opleveren. De grotere wafers zouden volgens Intel ook een besparing van 30 procent in de productiekosten opleveren. Intel zal dit jaar 7,5 miljard dollar spenderen aan een grootse invoering van de nieuwe productietechnologie en de grotere wafers. De eerste chips die gemaakt worden met behulp van de 0,13 micron-technologie zijn in de tweede helft van dit jaar verkrijgbaar. (tdv)