Achtergrond
Leiderschap
volgen
volgend
PRO
25 augustus 2003
leestijd 1 minuut
0 reacties
ASMI en Universiteit van Helsinki werken samen
ASMI en de Universiteit van Helsinki hebben een samenwerkingsovereenkomst gesloten op het gebied van de verdere ontwikkeling van Atomic Layer Deposition (ALD)-technologie. ALD-technologie maakt het mogelijk bij lage temperaturen lagen met een dikte van één atoom een voor een aan te brengen op wafers.
Shutterstock
© Shutterstock
Lees dit PRO artikel gratis
Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:
Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
Blijf up-to-date over de laatste ontwikkelingen in en rond tech
Word gratis lid en lees verder
Bevestig jouw e-mailadres
We hebben de bevestigingsmail naar %email% gestuurd.
Geen bevestigingsmail ontvangen? Controleer je spam folder. Niet in de spam, klik dan hier om een account aan te maken.
Sluiten
Er is iets mis gegaan
Helaas konden we op dit moment geen account voor je aanmaken. Probeer het later nog eens.
Sluiten
Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:
Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
Volg je favoriete topics
Heb je al een account?
Log in
Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:
Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
Volg je favoriete topics
Heb je al een account?
Log in
