Overslaan en naar de inhoud gaan

Intel en ASML in consortium DSA-lithografie

DSA, directed self-assembly, is een technologie waarbij materialen in zodanige conditie worden gebracht dat ze vanzelf de juiste patronen formeren. Daarmee verschilt DSA van lithografie waarbij de patronen in het materiaal geëtst worden. Intel en consorten zien DSA als een potentiële opvolger voor extreme ultraviolet lithograpy. Die technologie, de het mogelijk moet maken zeer veel schakelingen op een chip te bouwen, is al jaren in ontwikkeling en lijkt maar geen succes te worden.
Business
Shutterstock
Shutterstock

Placyd wordt financieel ondersteund door Eniac JU, het European Technology Platform for Nanoelectronics en is onderdeel van FP7, het Seventh Framework European Programme van de EU.

Onder leiding van het Franse chemische bedrijf Arkema worden materialen ontwikkeld voor DSA in een speciaal daarvoor gebouwde fabriek.
Particapanten zijn onder meer STMicroelectronics, Applied Materials Israël en vier Europese universiteiten.

Gerelateerde artikelen
Gerelateerde artikelen

Reacties

Om een reactie achter te laten is een account vereist.

Inloggen Word abonnee

Melden als ongepast

Door u gemelde berichten worden door ons verwijderd indien ze niet voldoen aan onze gebruiksvoorwaarden.

Schrijvers van gemelde berichten zien niet wie de melding heeft gedaan.

Bevestig jouw e-mailadres

We hebben de bevestigingsmail naar %email% gestuurd.

Geen bevestigingsmail ontvangen? Controleer je spam folder. Niet in de spam, klik dan hier om een account aan te maken.

Er is iets mis gegaan

Helaas konden we op dit moment geen account voor je aanmaken. Probeer het later nog eens.

Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:

Heb je al een account? Log in

Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:

Heb je al een account? Log in