Intel en ASML in consortium DSA-lithografie
DSA, directed self-assembly, is een technologie waarbij materialen in zodanige conditie worden gebracht dat ze vanzelf de juiste patronen formeren. Daarmee verschilt DSA van lithografie waarbij de patronen in het materiaal geëtst worden. Intel en consorten zien DSA als een potentiële opvolger voor extreme ultraviolet lithograpy. Die technologie, de het mogelijk moet maken zeer veel schakelingen op een chip te bouwen, is al jaren in ontwikkeling en lijkt maar geen succes te worden.

Shutterstock
Shutterstock
Placyd wordt financieel ondersteund door Eniac JU, het European Technology Platform for Nanoelectronics en is onderdeel van FP7, het Seventh Framework European Programme van de EU.
Onder leiding van het Franse chemische bedrijf Arkema worden materialen ontwikkeld voor DSA in een speciaal daarvoor gebouwde fabriek.
Particapanten zijn onder meer STMicroelectronics, Applied Materials Israël en vier Europese universiteiten.
Gerelateerde artikelen
Gerelateerde artikelen
Reacties
Om een reactie achter te laten is een account vereist.
Inloggen Word abonnee