ASML vordert gestaag met EUV

Kleinere golflengte

Chips worden - heel in het kort gezegd - gemaakt met een optisch proces, waarbij patronen worden afgebeeld op een gevoelige laag die op het substraat is aangebracht. Het resultaat daarvan is een deels verharde laag, waarvan de niet-verharde delen weggespoeld kunnen worden. Het zo ontstane etsmasker wordt in een etsbad gelegd, zodat structuren ontstaan. Hier geldt dat hoe kleiner de objecten op een chip moeten worden, des te korter ook de golflengte van het gebruikte licht moet zijn.

Zichtbaar licht is allang niet meer toereikend om de gewenste kleine spoorbreedtes te realiseren. In plaats daarvan werd overgestapt op UV-licht. Maar ook de golflengte daarvan is nu te groot om chips met zeer fijne details te kunnen maken. Extreem UV, met een nog kortere golflengte, is de oplossing.

Moeilijk proces

Het werken met EUV stelt echter heel aparte eisen aan de hardware van de chipproductiemachine. ASML heeft daar veel onderzoek naar gedaan, vooral bij het vergroten van de lichtsterkte. Hoe sterker het licht, des te korter is de tijd die nodig is om de details in de etslaag op de chip te zetten.