Foto Chipmachine duikt onder de 0,10 micron
Applied Materials uit de VS heeft een etsmachine ontwikkeld voor wafers van 300 mm doorsnede. Het apparaat is geschikt voor spoorbreedtes die kleiner zijn dan 100 nanometer (0,10 micron). Dergelijke fijne elementen komen voor op processoren met zeer hoge kloksnelheden (3 gigahertz of meer) en geheugens met een hoge capaciteit (te beginnen met 4 gigabit). Bij de ontwikkeling van deze machines heeft Applied Materials al direct rekening gehouden met een wafermaat van 300 mm.
Shutterstock
Shutterstock