Overslaan en naar de inhoud gaan
Achtergrond PRO
12 december 2005 leestijd 1 minuut 0 reacties

Forse stap vooruit in EUV-lithografie

Xtreme Technologies zegt fikse voortgang te hebben geboekt bij de ontwikkeling van extreme ultraviolet lithography-technologie. Het Duitse bedrijf stelt dat het een lichtbron heeft ontwikkeld op 800 watt. Om de EUV-technologie werkelijk bruikbaar te maken voor chipproductie moet sprake zijn van een lichtbron van minstens 1 kilowatt.
Redactie AG Connect
Redactie AG ConnectMeer van deze auteur
Business
Shutterstock
Shutterstock

Lees dit PRO artikel gratis

Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:

  • Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
  • Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
  • Blijf up-to-date over de laatste ontwikkelingen in en rond tech
Word gratis lid en lees verder

Bevestig jouw e-mailadres

We hebben de bevestigingsmail naar %email% gestuurd.

Geen bevestigingsmail ontvangen? Controleer je spam folder. Niet in de spam, klik dan hier om een account aan te maken.

Er is iets mis gegaan

Helaas konden we op dit moment geen account voor je aanmaken. Probeer het later nog eens.

Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:

Heb je al een account? Log in

Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:

Heb je al een account? Log in