Achtergrond Automatisering Gidsvolgen volgend
PRO
12 december 2005
leestijd 1 minuut
0 reacties
Forse stap vooruit in EUV-lithografie
Xtreme Technologies zegt fikse voortgang te hebben geboekt bij de ontwikkeling van extreme ultraviolet lithography-technologie. Het Duitse bedrijf stelt dat het een lichtbron heeft ontwikkeld op 800 watt. Om de EUV-technologie werkelijk bruikbaar te maken voor chipproductie moet sprake zijn van een lichtbron van minstens 1 kilowatt.
Shutterstock
© Shutterstock
Lees dit PRO artikel gratis
Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:
Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
Blijf up-to-date over de laatste ontwikkelingen in en rond tech
Word gratis lid en lees verder
Bevestig jouw e-mailadres
We hebben de bevestigingsmail naar %email% gestuurd.
Geen bevestigingsmail ontvangen? Controleer je spam folder. Niet in de spam, klik dan hier om een account aan te maken.
Sluiten
Er is iets mis gegaan
Helaas konden we op dit moment geen account voor je aanmaken. Probeer het later nog eens.
Sluiten
Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:
Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
Volg je favoriete topics
Heb je al een account?
Log in
Maak een gratis account aan en geniet van alle voordelen:
Toegang tot 3 PRO artikelen per maand
Inclusief CTO interviews, podcasts, digitale specials en whitepapers
Volg je favoriete topics
Heb je al een account?
Log in
