Naarmate chips kleiner worden, wordt het proces om ze te maken steeds ingewikkelder. Door de chips zichzelf te laten vormen, kan de miniaturisering nog flinke stappen maken.

De klassieke manier van chips produceren, bereikt zijn fysieke grenzen. Met de afmetingen kleiner dan 10 nanometer is het etsen van structuren nauwelijks betrouwbaar uit te voeren. Met Extreme Ultraviolet lithografie is nog een spoorbreedte van 7 nanometer te etsen in silicium, maar daarna is de grens waarschijnlijk wel bereikt.