IBM, AMD, Infineon Technologies en Micron Technology kondigen vandaag een gezamenlijk onderzoeksproject aan met een omvang van 580 miljoen dollar. Dit meldt de Wall Street Journal. Het onderzoeksinstituut moet de deelnemers toegang geven tot de laatste ontwikkelingen in lithografie en biedt hen de mogelijkheid te oefenen met de benodigde apparatuur.

Elk van de bedrijven steken 50 miljoen dollar in de gezamenlijke onderneming die waarschijnlijk Invent gaat heten. De staat New York voegt nog eens 180 miljoen dollar toe aan het werkkapitaal. De toeleveranciers doen mee voor 200 miljoen dollar.

Het instituut wordt gevestigd op de campus van de Albany NanoTech in New York waar veel kennis aanwezig is met betrekking tot het lithografieproces. Zo heeft het chipconsortium Sematech er onderzoeksfaciliteiten en heeft ASML er met IBM een gezamenlijke onderneming.

‘Invent’, wat staat voor International Venture for Nanolithography, gaat zich toeleggen op het verfijnen van de 45 nm en de 22 nm technologie, die essentieel zijn om de volgende generatie computerchips te fabriceren. (Thijs Doorenbosch)

Zie ook:
http://www.automatiseringgids.nl/news/default.asp?artId=18151 - AG nr 20, 2005